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關於科毅
我們的使命:
「工藝求精‧堅持創新」-
除能提供專業的黃光設備(清洗、塗佈、曝光(光刻)、顯影、蝕刻機台、玻璃光罩設計…等新/中古設備),科毅科技更可提供客戶潔淨且完善的黃光實驗室,並經由專業團隊的研發與實驗,更可設計出符合客戶需求的「客製化 黃光機台設備」。
我們的願景:
成為黃光製程設備及材料的專家
產品與服務
光電與半導體設備 ─ 曝光機,塗佈機,光罩,平行光源,高靈敏CCD相機
科毅科技以客製化、自動化優勢,創出良好的銷售佳績,並以專業、積極的售後服務,在眾多半導體設備製造商中脫穎而出。
我們的核心觀念:互信互惠
科毅科技文化的建立與形成是具體化、逐步演繹的過程,且必須具備以互信互惠的四項核心價值觀,分別為:「熱情務本、創新卓越、專業服務、執行效率」的四項精神,這是科毅科技的所有人都必須具備的工作態度與價值觀,以及做事的方式和原則。
我們的產品品質政策:
科毅科技為追求本公司之曝光機(光刻機)、塗佈機、光罩、平行光源等光電設備之優良品質,不斷研發製造技術(微影製程/技術),並設有 class 1000 等級無塵室,使所造之光電設備有更好的測試環境,以提供國內外廠商更精密良好的光電儀器。
此外更不斷針對製程進行改善以提高效率與產能、降低生產成本,才能提供客戶更即時、更具競爭力的產品與服務,進而達到與客戶共創利潤的雙贏局面。
我們的競爭優勢:
科毅科技的黃光設備產品可用於半導體主被動元件、光電顯示器、背光模組(仁)上,也可用於其他目前亦相當受到重視的太陽能電池、LED等產品的製程。
由於我們的產品之精進與創新及小型化等優勢,能使配合商品達到自動化、奈米科技化,並結合國內領先機構的頂尖技術,讓科毅科技更「精益求精‧創新科技」。
科毅提供光電、半導體產業所需的相關黃光製程設備與材料,品質優良、服務到位,已經獲得相關廠商、研究與教學單位的肯定、愛用。
市場顧客概略
全球各大光電、半導體廠:
友達光電(AU Optronics)、介面光電、奇美電子、奇美實業、群創光電(Innolux)、和鑫光電、長興化工、永記造漆、光洋應用材料、台灣波利亞、台灣明尼蘇達、永光化學、立景光電、 聯華電子(UMC)、日月光(ASE Group)、台積電(TSMC)、矽品(SPIL)、聯亞光電、穩懋、群成科技、威華微積電、同欣電子、大毅科技、乾坤科技、佳邦科技、光頡科技、麗正國際、亞昕科技、 台灣半導體、百福林、台灣威世通用、元耀科技、索爾思光電、美麗微半導體、晶元光電(Epistar)、全新光電、耀穎光電、璨圓光電、聯勝光電、聯京光電、光鋐科技、 健策精密、旺矽科技、利佳精密、北儒精密、聯致科技、江蘇漢萊科技、上海藍光科技、長春化工、南通同方、祥達光電、蘇州晶方半導體(China Wafer Level CSP)....等
研究機構與學校:
中科院、中研院、工研院、台大、清大、交大、成大、央大、海大、中正大、中山大、嘉義大、中興大、高雄大、台南大、陽明大學、東華、台灣師範大、 彰化師範、新竹教育大學、暨南、北科、虎科、屏科、長庚、中原、聖約翰、元智、義守、東海、萬能、中華、清雲、明志、明新、輔英科大....等
結合人心、刻畫未來
在黃光設備產業線日趨競爭的今日,科毅的創新精神必須持續升級,才能真正協助並感動到客戶。
希望與同仁共同創造一個可以不斷學習、快樂生活並努力執行的工作環境,並透過內部能量的蓄積,在全員的努力下達到階段性目標,向外擴散到服務態度、流程、系統,進而在服務的設計與過程中,達到讓顧客感動,協助客戶成功的境界,期待能落實成為黃光製程設備及材料的專家。
更在全面創新、結合人心、協助客戶、全力以赴的願景領航下, 一同刻畫未來達成上櫃增益、亞洲第一的使命。
顯影機 / 濕式清洗機 (蝕刻機)
(Developer / Wet Bench)
晶圓旋乾機 / 熱氮吹乾機
(Spin Dryer / Hot N2 Dryer)
光阻塗佈機 / 噴塗機
(Spin Coater / Spray Coater)
晶圓切割機
(Dicing M / C)
熱板
(Hot Plate)
無塵烘箱
(Oven)
紫外光固化機
(UV Curing System)
光激發光系統
(High Speed Automatic PL Mapping System)
強度計 / 照度計校正
(Intensity Meter Calibration)
水滴角量測儀
(Contact Angle)
玻璃 / 菲林光罩
(Glass / Film Photomask)
奈米級藍光雷射直寫微影設備與應用
(Blue-Laser Beam Direct-Write Lithography Instrument For Nano-Scale Patterning)
相關二手設備(中古設備):黃光 / 鍍膜 / 檢驗 之維修翻新
(Equipment Refurbishment)專利名稱:預先定位裝置
申請國家:中華民國
獲證號碼:M439541
專利名稱:曝光機之對準定位調整裝置
申請國家:中華民國
獲證號碼:M439825
專利名稱:雙軌循環式曝光裝置
申請國家:中華民國
獲證號碼:M473537
專利名稱:具有轉動式反射部之曝光裝置
申請國家:中華民國
獲證號碼:M478177
專 利:
- 雙層板精密對位之標記及其影像處理設計與方法(台灣專利、金屬中心)
- 雙軌循環式曝光裝置 (台灣專利)
- 具有轉動式反射部之曝光裝置(台灣專利)
- 對準定位調整裝置(台灣專利)
- 預先定位裝置(台灣專利)
關鍵技術:
- 精密機台對準校準裝置
- 精密對位影像處理設計與方法
台灣-總公司
科毅科技股份有限公司
M&R Nano Technology Co., Ltd.
Address : 326 桃園市楊梅區高獅路863巷10號
No.10, Ln. 863, Gaoshi Rd., Yangmei City, Taoyuan County 326, Taiwan
Tel : +886-3-485-2036
E-mail : richard@mrnanotec.com.tw
大陸-辦事處
業務副總 賴泰宇
Tel:+86-135-2798-9983
E-mail:gerry@mrnanotec.com.tw
國內 IC 及 LCD 產業對測試設備需求與日俱增,科毅科技2004年開始製作高解析 UV 曝光機,以客製化、自動化優勢,創出良好的銷售佳績,並以專業、積極的售後服務,在眾多半導體設備製造商中脫穎而出,客戶遍及亞洲各國,包括各類半導體、光電廠商及各大研究單位。
科毅科技為追求本公司之曝光機(光刻機)、塗佈機、光罩、平行光源等光電設備之優良品質,不斷研發製造技術(微影製程/技術),並設有 class 1000 等級無塵室,使所造之光電設備有更好的測試環境,以提供國內外廠商更精密良好的光電儀器。
此外更不斷針對製程進行改善以提高效率與產能、降低生產成本,才能提供客戶更即時、更具競爭力的產品與服務,進而達到與客戶共創利潤的雙贏局面。
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